低溫恒溫水浴槽CYDC-1030操作規(guī)格的詳細資料：

低溫恒溫水浴槽CYDC-1030操作規(guī)格

低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源， 可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用。泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

THE MAIN CHARACTERISTICS  ?∣主要特征：

●低溫恒溫槽采用全封閉進口壓縮機制冷，制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流多重保護裝置

●具有內外循環(huán)作用，循環(huán)泵可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場

●采用進口全自動PID溫度設定程序及進口溫度傳感器，控溫精度高。溫度數字顯示。

●大屏幕液晶中英文對照顯示，數據清晰，外形美觀，個性化界面讓工業(yè)控制不再單調。

●低溫恒溫槽機身外殼采用鏡面防老化靜電噴漆技術，內膽、臺面均為不銹鋼，清潔衛(wèi)生，美觀耐腐蝕。

●槽內冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗。

低溫恒溫水浴槽CYDC-1030操作規(guī)格

TECHNICAL PAPAMETERS  ?∣技術參數：

低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍 的溫度精確控制，應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測 量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。
    低溫恒溫槽裝置精密恒溫控制系統(tǒng)，整個量程范圍的溫度精確可控，噪音低，制冷效率高。其它制冷關鍵配件也采用全進口配件；制冷系統(tǒng)具備高壓保 護器，確保制冷系統(tǒng)安全。低溫恒溫槽裝置采用全封閉磁力泵循環(huán)攪拌，溫場均勻，*泄漏，傳感器開路、短路保護、雙重溫度保護等功能，確保儀器安全運行。
    低溫恒溫槽裝置可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源。低溫恒溫槽裝置內置新一代溫度控制程序，確保設備運行穩(wěn)定，全封閉壓縮機組制冷，制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流多重保護裝置。
    低溫恒溫槽裝置可以把槽內被恒溫液體外引，建立第二恒溫場，槽內冷液可外引，冷卻機外實驗容器，也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗，采用模擬數字PID自動控制系統(tǒng)，溫度數字顯示，內膽、臺面均為全不銹鋼，清潔衛(wèi)生，美觀耐腐蝕。低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。